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      低溫恒溫水浴槽CYDC-0530制冷加熱循環機

      低溫恒溫水浴槽CYDC-0530制冷加熱循環機

      更新時間:2019-04-12
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      低溫恒溫水浴槽CYDC-0530制冷加熱循環機是自帶制冷和加熱的高精度恒溫源, 可在機內水槽進行恒溫實驗,或通過軟管與其他設備相連,作為恒溫源配套使用。

      低溫恒溫水浴槽CYDC-0530制冷加熱循環機的詳細資料:

      低溫恒溫水浴槽CYDC-0530制冷加熱循環機

      主要特征:

      ●低溫恒溫槽采用全封閉進口壓縮機制冷,制冷系統具有過熱、過電流多重保護裝置

      ●具有內外循環作用,循環泵可以把槽內被恒溫液體外引,建立第二恒溫場

      ●采用進口全自動PID溫度設定程序及進口溫度傳感器,控溫精度高。溫度數字顯示。

      ●大屏幕液晶中英文對照顯示,數據清晰,外形美觀,個性化界面讓工業控制不再單調。

      ●低溫恒溫槽機身外殼采用鏡面防老化靜電噴漆技術,內膽、臺面均為不銹鋼,清潔衛生,美觀耐腐蝕。

      ●槽內冷液可外引,冷卻機外實驗容器,也可在槽內直接進行低溫、恒溫實驗。

       

      低溫恒溫槽的日常維護及保養

      1.風冷式的低溫恒溫槽機組開機要看風扇的轉向是否正確,如正轉可開機運行,反轉則說明電源接線接反,需要更換順序后再啟動。
      2.機組的各項保護裝置的設定值,廠家已經調試好,用戶請勿隨意修改。
      3.在機組發生故障報警停機時,要先按機組的停止按鈕(報警燈會熄滅),再檢查故障原因,在故障未排除前禁止強行開機運行。
      4.除非緊急情況之外不得通過切斷主電源來關閉機組;如果機組在冬季長久未使用情況下,要先關閉機組,再關閉主電源,并放掉系統內的水。
      5.要保持機房清潔及通風良好,定期對冷凝器進行去洗除污工作,保證機組正常穩定工作。
      6.請保持低溫恒溫槽散熱盤管表面清潔,確保周圍空氣流通,溫度低,定期清潔盤管上的積垢,已確保良好的換熱效果。
                                                                                                                

      低溫恒溫水浴槽CYDC-0530制冷加熱循環機

      技術參數:

      型號

      溫度范圍

      溫度波
      動度℃

      控溫精度℃

      工作槽容積
      mm³

      工作槽開
      口mm²

      槽深
      mm

      循環泵流
      量L/min

      排水

      CYDC-0506

      ﹣5~100

      ±0.05

      0.01

      250×200×150

      180×140

      150

      6

      CYDC-0510

      ﹣5~100

      ±0.05

      0.01

      250×200×200

      180×140

      200

      6

      CYDC-0515

      ﹣5~100

      ±0.05

      0.01

      300×250×200

      235×160

      200

      6

      CYDC-0520

      ﹣5~100

      ±0.05

      0.01

      280×250×300

      235×160

      300

      6

      CYDC-0530

      ﹣5~100

      ±0.05

      0.01

      420×330×230

      310×280

      230

      13

      CYDC-1006

      ﹣10~100

      ±0.05

      0.01

      250×200×150

      180×140

      150

      6

      CYDC-1010

      ﹣10~100

      ±0.05

      0.01

      250×200×200

      180×140

      200

      6

      CYDC-1015

      ﹣10~100

      ±0.05

      0.01

      300×250×200

      235×160

      200

      6

      CYDC-1020

      ﹣10~100

      ±0.05

      0.01

      280×250×300

      235×160

      300

      6

      CYDC-1030

      ﹣10~100

      ±0.05

      0.01

      420×330×230

      310×280

      230

      13

      CYDC-2006

      ﹣20~100

      ±0.05

      0.01

      250×200×150

      180×140

      150

      6

      CYDC-2010

      ﹣20~100

      ±0.05

      0.01

      250×200×200

      180×140

      200

      6

      CYDC-2015

      ﹣20~100

      ±0.05

      0.01

      300×250×200

      235×160

      200

      6

      CYDC-2020

      ﹣20~100

      ±0.05

      0.01

      280×250×300

      235×160

      300

      6

      CYDC-2030

      ﹣20~100

      ±0.05

      0.01

      420×330×230

      310×280

      230

      13

      CYDC-3006

      ﹣30~100

      ±0.1

      0.1

      250×200×150

      180×140

      150

      6

      CYDC-3010

      ﹣30~100

      ±0.1

      0.1

      250×200×200

      180×140

      200

      6

      CYDC-3015

      ﹣30~100

      ±0.1

      0.1

      300×250×200

      235×160

      200

      6

      CYDC-3020

      ﹣30~100

      ±0.1

      0.1

      280×250×300

      235×160

      300

      6

      CYDC-3030

      ﹣30~100

      ±0.1

      0.1

      420×330×230

      310×280

      230

      13

       

      低溫恒溫槽裝置為用戶提供熱冷受控,溫度均勻恒定的場源,也可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源,整個量程范圍 的溫度精確控制,應用于石油化工、制藥等化學反應工藝過程控制,半導體擴散爐擴散工藝控制,低溫測 量和檢定,樣品保存等浸入式或外循環應用。

          低溫恒溫槽裝置精密恒溫控制系統,整個量程范圍的溫度精確可控,噪音低,制冷效率高。其它制冷關鍵配件也采用全進口配件;制冷系統具備高壓保 護器,確保制冷系統安全。低溫恒溫槽裝置采用全封閉磁力泵循環攪拌,溫場均勻,*泄漏,傳感器開路、短路保護、雙重溫度保護等功能,確保儀器安全運行。
          低溫恒溫槽裝置可在機內水槽進行恒溫實驗,或通過軟管與其他設備相連,作為恒溫源配套使用,為用戶工作時提供一個熱冷受控,溫度均勻恒定的場源,對試驗樣品或生產的產品進行恒定溫度試驗或測試,可作為直接加熱或制冷和輔助加熱或制冷的熱源。低溫恒溫槽裝置內置新一代溫度控制程序,確保設備運行穩定,全封閉壓縮機組制冷,制冷系統具有過熱、過電流多重保護裝置。
          低溫恒溫槽裝置可以把槽內被恒溫液體外引,建立第二恒溫場,槽內冷液可外引,冷卻機外實驗容器,也可在槽內直接進行低溫、恒溫實驗,采用模擬數字PID自動控制系統,溫度數字顯示,內膽、臺面均為全不銹鋼,清潔衛生,美觀耐腐蝕。低溫恒溫槽裝置為用戶提供熱冷受控,溫度均勻恒定的場源,也可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源,整個量程范圍的溫度精確控制,應用于石油化工、制藥等化學反應工藝過程控制,半導體擴散爐擴散工藝控制,低溫測量和檢定,樣品保存等浸入式或外循環應用。
        

       

       


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