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      多功能光催化反應儀CY-GHX-DC控溫冷卻裝置

      多功能光催化反應儀CY-GHX-DC控溫冷卻裝置

      更新時間:2019-11-29
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      多功能光催化反應儀CY-GHX-DC控溫冷卻裝置.主要用于研究氣相或液相介質、固定或流動體系、紫外光或模擬可見光照、以及反應容器是否負載TiO2光催化劑等條件下的光化學反應。具有提供分析反應產物和自由基的樣品,測定反應動力學常數,測定量子產率等功能,廣泛應用化學合成、環境保護以及生命科學等研究領域。

      多功能光催化反應儀CY-GHX-DC控溫冷卻裝置的詳細資料:

      多功能光催化反應儀CY-GHX-DC控溫冷卻裝置?                                           

      技術參數:

      型號:CY-GHX-DC多功能控溫光化學反應儀

      (一)主體部分

      1.光源功率可連續調節大小。

      2.集成式光源控制器,可供汞燈、氙燈、金鹵燈等多種光源使用。

      3.汞燈功率調節范圍:0~1000W可連續調節。

      4.氙燈功率調節范圍:0~1000W可連續調節。

      5.金鹵燈功率調節范圍:0~500W可連續調節。

      (二)小容量反應部分

      1.石英試管規格:30ml、50ml(或定做)。

      2.可同時處理8個樣品(或定做)。

      3.八位磁力攪拌裝置可同步調節8個樣品的攪拌速度。

      (三)大容量反應部分

      1.玻璃反應器皿可以分別選用250ml、500ml、1000ml等(或定做)。

      2.大功率強力磁力攪拌器使樣品充分混勻受光。

      (四)控溫裝置

      1.冷卻水循環裝置制冷量:>1000W

      2.控溫范圍:-5°C到100°C

      3.冷卻水循環裝置設有腳輪和底部排液閥。

       

      多功能光催化反應儀CY-GHX-DC控溫冷卻裝置?       

      光化學儀器的維護及保養措施

       

      一、必須重視儀器設備的管理和使用

        儀器設備的高負荷使用,往往容易發生意外故障,特別是光學儀器若因維護和使用不當而起霧,就不能發揮儀器的正常作用,而帶來工作上的障礙。所以高效的維護管理儀器設備已成為當今企事業單位有效降低成本,提高勞動生產率的有效手段。目前國內企業設備維護管理一般還停留在被動的搶修作業模式,即當儀器設備發生故障,無法繼續使用時,維修人員才在短時間內將故障排除,而當沒有發生故障時,維修人員只是空閑,所以這樣的管理模式是談不上效率的,因此,儀器設備的管理也應做好計劃,同樣設備維護管理也需要把非計劃性的工作轉化為計劃性的工作。如果我們定期的檢查保養來減低故障的發生,特別是做好儀器的"三防"工作,避免搶修工作,保證儀器隨時能投入正常的作用,這就是一種主動的方式。

        二、注意測繪儀器的防霧

        測繪儀器在使用和貯放中,除了有生霉現象外,往往還有光學零件的起霧,影響儀器的正常使用,故可針對光學信器起霧的主要因素,采取防止措施。

        A、設計使用中的防霧措施

        A1、設計儀器時注意防霧,儀器結構應加強密封性能,保證儀器在高溫或低溫情況下不降低密封性能,以防止因漏氣而引起的水性霧,設計人員應當充分注意選擇化學穩定性能好的光學玻璃和材料,為防霧打下良好的基礎。

        A2、在制造和維修過程中注意整潔生產,裝配和維修的工房須清潔,并嚴格遵守操作規程,精心擦拭光學零件,嚴禁用手直接接觸和拿取光學零件,夾持光學零件的工具須進行脫脂處理,擦光學零件所用的輔件,如棉光、布塊、乙醇、yi醚、碘以及與光學零件接觸的有機墊片均須進行嚴格脫脂,控制含脂量,裝光學零件的器皿和盛乙醇、yi醚的瓶子,須經常清洗,保持清潔,這些都是減少油性霧的重要途徑。

        A3、減少儀器內部的水蒸氣,防止水蒸氣在玻璃表面上凝結,盡可能在干燥的條件下進行裝配或對裝配好的儀器進行干燥處理,如充干燥氮氣或空氣以及放置干燥劑。儀器在使用和庫存中,盡量控制使用環境和庫房的相對濕度在6%左右,對于外業儀器在使用中不好控制濕度,用后應放在通風、向陽、干燥的地方,在儀器箱內放入干燥劑,并注意密封和及時更換烘干硅膠干燥劑,在潮濕環境下,使用的內業儀器,如糾正儀、復照儀等,對于可取下來的鏡頭和精密的光學部件,用后及時取下來故人干燥缸內加以保護,并經常保持儀器清潔,減少結霧核心。

        A4、合理選擇和使用油脂,光學儀器上用的各種防塵脂、潤油油脂必須是揮發度極低和化學穩定性好的材料,在光學儀器的金屬零件上涂油脂時,首先要把零件清洗干凈,讓汽油揮發完后再涂油脂,并且要涂均勻而不能過多,距光學件10-15mm的范圍內,禁止涂潤滑油脂和防塵脂,防止油脂擴散引起油性霧。

        A5、提高光學玻璃表面的化學穩定性,利用化學鍍膜或真空鍍膜方法,在玻璃表面鍍一層憎水膜,以提高玻璃的化學穩定性,增強玻璃的抗腐蝕能力,減少起霧,為了減輕水性霧對觀察的影響,也可采用親水材料,鍍上一層透明的具有一定的物理性能偽親水膜,使水霧能全部散開,均勻的分散在膜層中,不影響觀察,當大氣干燥時,膜層中的水分自然地揮發到大氣中。

        A6、除霉,除霧

        光學儀器一旦生霉起霧,就造成了不良的影響,而且給修理工作帶來很多麻煩,因此,要以防為主,從儀器設計、制造開始就注意搞好防霉防霧,儀器庫存和使用中加強維護保養,是做好防霉防霧工作重要保證。而如果儀器已經生霉起霧,就應及時處理,以免造成更大損失。如果霜霧只在初期階段,即在儀器生霉起霧后,很短的時間內,只在玻璃表面層附蓋著而沒有侵蝕玻璃和破壞膜層的時候,可以用混合液擦掉。儀器生霧起霧后應及時處理,否則時間長了,就會腐蝕光學零件的表面和鍍膜,甚至于玻璃腐蝕,應及時用一般的混合液或用乙基含氫二氯硅烷溶液擦洗,這種溶液即防霧,又有一定的除霧除霉作用。多倍儀的綠色濾光片大部分是磷酸鹽玻璃,很易起霧,而且很難擦凈,可以用稀的氨水擯洗,而后用水洗凈,再及時用混合液把濾光片表面擦干,但這種玻璃很不穩定,如果不用時,擦凈放在干燥皿內,或及時作霧處理,否則還會生霉起霧。對硅酸鹽玻璃盡量避免用堿性的物質去擦,因為堿對硅酸鹽類有腐蝕作用。如果當光學零件嚴重生霉起霧,并已腐蝕了玻璃,只有重新更換玻璃或重新把光學零件拋光。總之光學儀器要以防為主,發現霉霧要及時除掉,除霉霧后,要及時采取防霧防霉措施,才能保護儀器使之發揮更大的作用。

        B、光學儀器起霧的原因及其危害

        霧是指光學零件的拋光面上,呈現出"露水"似的物質,這些物質有的是油質點子構成的,稱為油性霧,有的是由水珠或水與玻璃起化學反應形成堆積物構成的,稱為水性霧:有的光學零件上,兩種霧都有,叫做水油混合霧,一般的都以"露水"狀或干的堆積物存在于玻璃表面上。油性霧通常分布在元形光學零件的邊緣,并向中央伸延,有的則沿擦拭痕跡分布,油性霧的形成主要是油脂污染了玻璃表面,或是由于油脂的擴散,揮發在玻璃表面凝結而造成的,比如擦拭光學零件所用的輔料含脂量高,或者所用的工具帶有油脂,用手指直接拿取和觸及光學零件等,都會引起油性霧,或者是光學儀器上所用油脂的化學穩定性不好,產生擴散或使用方法不當涂油過多,油脂擴散到光學零件上而引起油性霧,或者是由于儀表油脂揮發性很大,會產生油質蒸氣而形成油性霧,還有的是用汽油清洗金工零件時,沒有讓汽油充分發揮干凈,就涂油裝配。還有的用汽油稀釋放塵脂涂在鏡身內,隨著時間的增長和溫度的變化,這些汽油及所含的其它成份,逐漸揮發至光學零件上而形成油性霧。

        水性霧是由于潮濕空氣在溫度變化下而形成,主要分布在零件的全面積上,產生原因主要是潮濕氣體所致,但與儀器密封性能、光學玻璃的化學穩定性,以及玻璃表面的清潔程度有關,在較高的相對濕度下,霉菌易生長,有些霉菌生長狀大后,便在菌絲體周圍產生分泌物,這些分泌物有的是液狀的,在液狀分泌物外圍便形成水性霧。不管何種原因形成的霧,由于霧滴以曲率半徑極小的球形分布于光學零件表面上、使入射光線產生散射現象,除了降低儀器的有效透光率外,并使成象質量差影響觀測。有的光學零件因長期起霧,被腐蝕的玻璃表面形成很多微孔,嚴重的會使玻璃零件報廢。光學儀器起霧不僅在我國東南地區嚴重存在,就是較干燥的地區,由于溫差變化,也會起霧,它比光學儀器生霉的影響范圍更大,而且更難防止。

       

      操作說明:

      1、準備工作:連接電源。使用該儀器前首先把八位反應器(或磁力攪拌器)放入主機箱內,石英反應管(或反應容器)內放入磁子。之后檢查所需要使用的汞燈(氙燈)、反應器以及冷卻水循環裝置是否連接好。(如下圖連接)

      2、反應暗箱內設有八位反應器(或磁力攪拌器)和燈的電源接口,請按指示連接。

      3、配備進口高壓泵:配管尺寸較長,可平穩的進行長距離循環、冷卻或恒溫機外實驗容器或建立第二恒溫場。

      4、高密度耐腐蝕材料:可循環純水的循環泵、冷卻盤管、吐出口、回流口的關鍵接口都采用不銹鋼(SUS304)制造。

      5、循環介質類型:硅油、水、鹽水、純酒精等實驗室常用循環介質。

       

      反應暗箱:

      主體箱是放置系列光化學反應儀光照裝置的地方,具有以下特征:

      1、箱體內部為黑色,以降低光反射。

      2、箱體后部有冷卻水進出口。

      3、調節控制器上面的光光源功率旋鈕,使所使用光源功率處于zui大狀態,這樣利于燈管激亮。

      4、依次打開控制器上面的風扇開關、反應器和燈開關,風扇開始工作(反應暗箱內空氣開始外排。

      5、打開八位反應器(或磁力攪拌器)上面的電源開關,按需調節攪拌速度。

      6、光源功率調節位于控制器中心位置,可按需調節光源功率大小。

      7、控制器右上方設有微電腦定時器,可按需設置工作時間。

      注:無論使用汞燈或氙燈做實驗時,必須將燈源放置在石英冷阱內使用(建議同時配套低溫冷卻循環裝置使用,避免溫度過高造成儀器損壞)。

       

       


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