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      雙層石英冷阱光化學反應儀

      雙層石英冷阱光化學反應儀

      更新時間:2025-03-28
      型    號: CY-GHX-DC
      報    價: 5500
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      雙層石英冷阱光化學反應儀
      川一儀器系列光化學反應儀, 又稱為光化學反應釜,多功能光化學反應器.主要用于研究氣相或液相介質、固定或流動體系、紫外光或模擬可見光照、以及反應容器是否負載TiO2光催化劑等條件下的光化學反應。具有提供分析反應產物和自由基的樣品,測定反應動力學常數,測定量子產率等功能,廣泛應用化學合成、環境保護以及生命科學等研究領域。

      CY-GHX-DC雙層石英冷阱光化學反應儀的詳細資料:

      雙層石英冷阱光化學反應儀

      主要特征  

      1.光化學反應儀智能微電腦控制,可觀察電流和電壓實時變化

      2.進口光源控制器,內置光源轉換器,功率連續可調,穩定性高

      3. 光化學反應儀具有分步定時功能,操作簡便

      4.反應暗箱內壁使用防輻射材料,且帶有觀察窗

      5.采用內照式光源,受光充分,燈源采用耐高壓防震材質,經久耐用

      6.配有大功率磁力攪拌裝置,使樣品充分混勻受光

      7.雙層耐高低溫石英冷阱,可通入冷卻水循環維持反應溫度

      8.光化學反應儀高溫度保護系統,自動斷電功能

      9.機箱外部結構設有循環水進出口,內部設有2個專用插座,供燈源和攪拌反應器用

      技術參數:

      型號:CY-GHX-DC多功能控溫光化學反應儀

      (一)主體部分

      1.光源功率可連續調節大小。

      2.集成式光源控制器,可供汞燈、氙燈、金鹵燈等多種光源使用。

      3.汞燈功率調節范圍:0~1000W可連續調節。

      4.氙燈功率調節范圍:0~1000W可連續調節。

      5.金鹵燈功率調節范圍:0~500W可連續調節。

      (二)小容量反應部分

      1.石英試管規格:30ml、50ml(或定做)。

      2.可同時處理8個樣品(或定做)。

      3.八位磁力攪拌裝置可同步調節8個樣品的攪拌速度。

      (三)大容量反應部分

      1.玻璃反應器皿可以分別選用250ml、500ml、1000ml等(或定做)。

      2.大功率強力磁力攪拌器使樣品充分混勻受光。

      (四)控溫裝置

      1.冷卻水循環裝置制冷量:>1000W

      2.控溫范圍:-5°C到100°C

      3.冷卻水循環裝置設有腳輪和底部排液閥。

      雙層石英冷阱光化學反應儀


       

      多試管光化學反應儀產品配置:

      配置單

        量

      控制主機

      1臺

      反應暗箱

      1臺

      光源控制器

      1臺

      雙層石英冷阱

      1個

      汞燈(1000W)

      1支

      氙燈(1000W)

      1支

      金鹵燈(500W)

      1支

      專用循環機

      1套

      攪拌裝置

      1套

      樣品反應瓶

      1只(250ml,500ml,1000ml可選)

      反應罐

      8只(30ml50ml8只)

       

       

       

      雙層石英冷阱光化學反應儀


      光化學反應儀操作說明

      1、 準備工作:連接電源。使用該儀器前先把八位反應器(或磁力攪拌器)放入主機箱內,石英反應管(或反應容器)內放入磁子。之后檢查所需要使用的汞燈(氙燈)、反應器以及冷卻水循環裝置是否連接好。(如下圖連接)

        2、 反應暗箱內設有八位反應器(或磁力攪拌器)和燈的電源接口,請按指示連接。

        3、調節控制器上面的光源選擇,使所使用光源與控制器上面的保持一致(按光源種類和功率大小區分)

        4、依次打開控制器上面的風扇開關、反應器和燈開關,風扇開始工作(反應暗箱內空氣開始外排。

        5、打開八位反應器(或磁力攪拌器)上面的電源開關,按需調節攪拌速度。

        6、光源功率調節位于控制器中心位置,可按需調節光源功率大小。

        7、控制器右上方設有微電腦定時器,可按需設置工作時間。

        注:無論使用汞燈或氙燈做實驗時,將燈源放置在石英冷阱內使用(建議同時配套低溫冷卻循環裝置使用,避免溫度過高造成儀器損壞)。



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